高冰，武汉大学教授，博导，在日本九州大学先后担任过学术研究员、特聘副教授，在挪威科技工业研究院(SINTEF)担任过终身研究科学家。

主要研究方向：传热传质、流体力学、固体及材料力学、多尺度大规模计算机模拟、机械设计与制造及晶体材料的生长与制备。

学术成果：在国内国际发表文章63篇，其中SCI 49篇，申请和授权日本专利2项，组织和主办国际会议1次，参与编写Springer，Elsevier, Taylor & Francis专著3本。以口头或海报形式发表国际论文58篇，国内会议59篇，其中受邀在美国国际性大会上发表邀请报告4次，日本国际性大会上发表邀请报告1次，中国国内会议发表邀请报告1次。因在高纯度硅晶体材料生长机理及研究方面的显著贡献获得2015年的Ulrich Goesele Young Scientist Award (德国，每2年评1人)以及日本晶体生长学会的第八次奖励赏（日本，每年评1-2人）。高纯度硅生长技术在日本、中国、法国、德国等知名光伏企业中得到了广泛应用；发表的4篇SCI文章连续4次被ScienceDirect评为在晶体生长领域内，最受关注的顶尖25篇文章之一。数学建模方面，硅晶体生长杂质输运模型、以及硅、碳化硅、氮化铝、氮化稼晶体生长的位错模型、PVT生长碳化硅晶体的多尺度耦合模型等被美国、中国、俄罗斯、法国等知名研究组及企业所紧密追踪。

联系方式：电话，02750853296 邮箱，bgao78@163.com

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